GEI336 - Introduction à la microélectronique

Cible(s) de formation

Connaître les principes physicochimiques sous-jacents à la fabrication de circuits intégrés.

Contenu

Notions physicochimiques reliées aux différentes étapes de la réalisation des circuits intégrés VLSI sur silicium : matériau de base, lithographie, diffusion, implantation ionique, oxydation, plasmas, gravure, croissance de couches minces, métallisation. Notions d'intégration de ces techniques en vue de la réalisation d'éléments de circuits intégrés VLSI. Survol des techniques d'analyse disponibles, des méthodes de simulation, de l'assemblage et du contrôle de qualité des puces.

Préalable(s)

GEI210