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Système d'électrolithographie Raith EBPG 5200

Description

Cet équipement permet de faire réagir une résine électrosensible à un faisceau d’électrons et ainsi de produire des motifs d’une dimension inférieure à 5nm.

Marque et modèle

Raith EBPG 5200

Spécifications techniques

  • Platine à mouvements rapides
  • Champ d'écriture de 1 mm
  • Dimension minimale des structures de 5 nm
  • Erreur de superposition < 10 nm
  • Chargement de 10 cassettes
  • Substrats de 200mm
  • Système 100kV à 125 Mhz