Système d'électrolithographie Raith EBPG 5200

Description

Cet équipement permet de faire réagir une résine électrosensible à un faisceau d’électrons et ainsi de produire des motifs d’une dimension inférieure à 5nm.

Marque et modèle

Raith EBPG 5200

Spécifications techniques

• Platine à mouvements rapides
• Champ d'écriture de 1 mm
• Dimension minimale des structures de 5 nm
• Erreur de superposition < 10 nm
• Chargement de 10 cassettes
• Substrats de 200mm
• Système 100kV à 125 Mhz