Système d'électrolithographie Raith 150Two
Description
Cet équipement permet de faire réagir une résine électrosensible à un faisceau d’électrons et ainsi de produire des motifs d’une dimension inférieure à 10nm.
Le Raith 150-Two est aussi un appareil de métrologie automatisable très puissant grâce à une platine de déplacement précise (déplacement de 150mm avec une précision de quelques nm) couplé à un logiciel faisant le pont entre les dessins au format GDS et les mesures.
Marque et modèle
Raith 150-Two
Spécifications techniques
Colonne à faisceau d'électrons et optique:
- Source d'électrons: émetteur de champ Schottky ZrO / W.
- Plage d'énergie du faisceau: 100 V à 30 kV par pas de 10 V.
- Gamme de courant du faisceau: 5 pA - 20 nA.
- Taille du faisceau (faisceau gaussien):
- 2 nm à 20 kV à 3 mm de distance de travail.
- nm à 1 kV à 3 mm de distance de travail.
- Système de déflexion avec plage de taille de champ d'écriture: de 0,5 µm à 2 mm
- Étage contrôlé par interféromètre laser (rés. 2 nm, répétabilité << 50 nm)
- Ouverture: 7 à 120 μm
- Génération de motifs à haute vitesse de 20 MHz
- Détection de hauteur automatisée
- Taille minimale des caractéristiques ≤ 20 nm.
- Possibilité de modeler des zones jusqu'à 4 gaufres