Appareil d'exposition DUV sans masque

Description

Appareil d’exposition DUV (ultra-violet lointain) dépourvu de système d’alignement de masque photolithographique pour illumination sur l’ensemble des substrats

Marque et modèle

OAI- Optical Associates Inc.- OAI 2000W UV-Flooder

Spécifications techniques

• Lampe UV 2000W avec DUV de longueur d’onde vers 250nm
• Diamètre maximum des substrats : 4 po

Exemples de procédés disponibles

• Procédé hybride : Étape d’exposition de résine PMMA (résine électrosensible, mais aussi photosensible au DUV, et non pas aux UV) masquée par de la photorésine dans un procédé lithographique combinant la photolitho et l’électrolitho pour une plus grande efficacité, c’est-à-dire pour éventuellement dégager de grandes zones peu critique de PMMA par exposition DUV.
• Autre exposition au DUV