Aligneuse de masques à contact 3 po Optical Associates Inc. - OAI 200

Description

Appareil d’exposition UV pour masques photolithographiques avec alignement au substrat par la face avant

2 modes d’utilisation disponibles : hard contact et vacuum contact.

Marque et modèle

OAI - Optical Associates Inc. - OAI 200

Spécifications techniques

• Résolution 0.8 µm
• Lampe UV 200W émettant aux longueurs d'onde situées entre 220 nm et 436 nm
• Diamètre maximum des substrats : 3 po
• Dimensions maximum des masques : carrés 4 po x 4 po. 5x5 possible avec ajustement.
• Compatible avec l'utilisation de petits échantillons

Exemples de procédés disponibles

• Exposition de résines diverses (Shipley, AZ, SU8, Futurrex, dry film, etc.) selon des motifs prédéfinis en vue de la réalisation de :
• Microstructures semiconductrices (sur Si, composés III-V, etc.) et microstructures métalliques
• Masques d'implantation
• Masques de gravure
• Masques de soulèvements
• Masques de placage
• Composant permanent pour guide d’ondes ou pour canaux microfluidiques