Appareil de pulvérisation cathodique Plasmionique SPT320
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Description
Déposition de couches minces
Marque et modèle
Plasmionique - SPT320
Spécifications techniques
- Système à 3 magnétrons (matériaux disponibles :Ag, Al, AlN, Al₂O₃, AlSiCu, Cr, Cu, Hf, HfO₂, In₂O₃, ITO, Mo, Nb, Ni, NiCr, Si, SiO₂, Ta, Ti, TiN, TiO₂, W) permettant de réaliser des dépôts multicouches
- Porte-échantillon rotatif, coupons, substrat de 100mm ou moins
- Sources RF et DC
Exemples de procédés disponibles
- Métallisations de surface
- Dépôt de multicouches métalliques pour réalisation de contacts ohmiques sur semiconducteurs et hétérostructures