Photoplotter Heidelberg Instruments - DWL66fs

Description

Photolithographie par écriture directe pour prototypage rapide

Marque et modèle

Heidelberg Instruments - DWL66fs

Spécifications techniques

• Source : Diode laser émettant à 405 nm
• Diamètre maximum des substrats : 150 mm
• Zone d’écriture active : 140mm x 140mm
• Compatible avec les formats CIF, GDSii, DXF et Gerber
• Précision de placement : 50nm
• Tête basse résolution : dimensions critiques jusqu’à 2.5µm
• Tête haute résolution : dimensions critiques jusqu’à 0.6µm

 Exemples de procédés disponibles

• Écriture directe dans photorésines AZ 1500, AZ nLof, SU-8 TF 6000, incluant bi-couches pour procédés de soulèvements