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Système de dépôt Angstrom Nebula

Description

Système de dépôt de couches minces par canon d'électrons et pulvérisation cathodique

Marque et Modèle

Angstrom-Nebula

Spécifications techniques

  • Taille maximale des substrats : coupon, substrat de 200 mm ou moins, compatible avec l'utilisation de petits échantillons
  • Matériaux disponibles :
    • évaporation : Al, Au, Cr, Ge, Ni (à venir) Pt, Ti. Carrousel à 6 creusets permettant de réaliser des dépôts multicouches sans avoir à casser le vide. 
    • pulvérisation : Ti, Al, ITO, TiN un magnétron en RF et un magnétron en DC pulsé
  • Nettoyage in-situ et assistance par faisceau d'ions.
  • Gaz disponibles pour pulvérisation réactive et faisceaux d'ions : Ar, N2, O2
  • Porte-échantillons rotatif, chauffant jusqu'à 600°C

Exemple de procédés disponibles

  • Métallisations de surface
  • Dépôt de multicouches métalliques pour réalisation de contacts ohmiques sur semiconducteurs et hétérostructures