Développement d’un photomasque reprogrammable à base d’un interféromètre Fabry-Perot MEMS destiné à la photolithographie UV
- Date :
- Mardi 23 juin 2026
- Heure :
- À 13 h
- Type :
- Soutenance de thèse
- Lieu :
- DANS LE LOCAL P2-1002(3IT) DE L’INSTITUT INTERDISCIPLINAIRE D’INNOVATION TECHNOLOGIQUE
Description :
Doctorant : Md Iftekharul Islam
Directeur : Luc Fréchette
Codirecteur : Serge Ecoffey
Président de jury : À être confirmé
Résumé : Cette thèse présente le développement d’un photomasque reprogrammable à base de MEMS pour la photolithographie par projection UV, afin de répondre aux limites des masques conventionnels statiques en chrome sur quartz, notamment en matière de coût, de délai et de flexibilité. Le dispositif proposé intègre des pixels interférométriques Fabry-Perot directement au plan du masque, où l’ajustement électrostatique de l’espacement de cavité permet de moduler la transmission optique à 365 nm et de contrôler localement la dose d’exposition délivrée à la résine photosensible. Le travail établit d’abord un cadre de conception optique au moyen d’une modélisation analytique et d’une analyse en couches minces, puis valide des cavités Fabry-Perot à espacement fixe afin de confirmer les états de transmission constructive et destructive attendus. Une matrice de pixels MEMS accordables est ensuite conçue, fabriquée et caractérisée en tenant compte de la stabilité de l’actionnement, du contrôle des contraintes résiduelles et de la planéité de la membrane au-dessus de l’ouverture optique. Les mesures électriques et optiques démontrent une modulation de transmission dépendante de la tension, avec un contraste normalisé d’environ 55 %. Les expériences de lithographie au stepper montrent également un déplacement effectif de dose d’environ 30 % dans la résine et permettent le transfert de motifs avec des dimensions minimales d’environ 1,7 µm. Ces résultats établissent une plateforme compatible avec les steppers pour la lithographie adaptative, le prototypage rapide et la personnalisation de motifs au niveau de la puce.
Doctorant : Md Iftekharul Islam
Directeur : Luc Fréchette
Codirecteur : Serge Ecoffey
Président de jury : À être confirmé
Résumé : Cette thèse présente le développement d’un photomasque reprogrammable à base de MEMS pour la photolithographie par projection UV, afin de répondre aux limites des masques conventionnels statiques en chrome sur quartz, notamment en matière de coût, de délai et de flexibilité. Le dispositif proposé intègre des pixels interférométriques Fabry-Perot directement au plan du masque, où l’ajustement électrostatique de l’espacement de cavité permet de moduler la transmission optique à 365 nm et de contrôler localement la dose d’exposition délivrée à la résine photosensible. Le travail établit d’abord un cadre de conception optique au moyen d’une modélisation analytique et d’une analyse en couches minces, puis valide des cavités Fabry-Perot à espacement fixe afin de confirmer les états de transmission constructive et destructive attendus. Une matrice de pixels MEMS accordables est ensuite conçue, fabriquée et caractérisée en tenant compte de la stabilité de l’actionnement, du contrôle des contraintes résiduelles et de la planéité de la membrane au-dessus de l’ouverture optique. Les mesures électriques et optiques démontrent une modulation de transmission dépendante de la tension, avec un contraste normalisé d’environ 55 %. Les expériences de lithographie au stepper montrent également un déplacement effectif de dose d’environ 30 % dans la résine et permettent le transfert de motifs avec des dimensions minimales d’environ 1,7 µm. Ces résultats établissent une plateforme compatible avec les steppers pour la lithographie adaptative, le prototypage rapide et la personnalisation de motifs au niveau de la puce.