Réacteur au plasma pour la déposition de couches minces

La polymérisation au plasma est une technique qui nous permet, à partir d’un monomère en phase gazeuse, de déposer une mince couche réactive sur une surface.

Le principe est fort simple : sous pression réduite, le monomère qui est à la base sous forme liquide, arrive à la chambre d’ionisation sous forme gazeuse.  À la surface des électrodes, le bombardement des électrons ionise les molécules gazeuses du monomère. Les molécules du monomère se fractionnent alors pour créer des électrons libres, des ions, des molécules dans un état hautement énergétique et des radicaux libres.  Ces radicaux sont finalement adsorbés et polymérisés directement sur la surface du substrat.

Le plasma généré dans le réacteur de cette façon est appelé un plasma froid.  Le vide étant contrôlé, les électrons n'arrivent pas à être en équilibre thermodynamique avec les molécules gazeuses du monomère.

Surface Plasmon Resonance (SPR)

Instrument obtenu par un octroi du CRSNG - Programme Équipement