Système d'électrolithographie Raith 150-Two

Description

Cet équipement permet de faire réagir une résine électrosensible à un faisceau d’électrons et ainsi de produire des motifs d’une dimension inférieure à 10nm.

Le Raith 150-Two est aussi un appareil de métrologie automatisable très puissant grâce à une platine de déplacement précise (déplacement de 150mm avec une précision de quelques nm) couplé à un logiciel faisant le pont entre les dessins au format GDS et les mesures.

Marque et modèle

Raith 150-Two

Spécifications techniques

Colonne à faisceau d'électrons et optique:

  •  Source d'électrons: émetteur de champ Schottky ZrO / W.
  • Plage d'énergie du faisceau: 100 V à 30 kV par pas de 10 V.
  • Gamme de courant du faisceau: 5 pA - 20 nA.
  • Taille du faisceau (faisceau gaussien):
  • 2 nm à 20 kV à 3 mm de distance de travail.
  • nm à 1 kV à 3 mm de distance de travail.
  • Système de déflexion avec plage de taille de champ d'écriture: de 0,5 µm à 2 mm
  • Étage contrôlé par interféromètre laser (rés. 2 nm, répétabilité << 50 nm)
  • Ouverture: 7 à 120 μm
  • Génération de motifs à haute vitesse de 20 MHz
  • Détection de hauteur automatisée
  • Taille minimale des caractéristiques ≤ 20 nm.
  • Possibilité de modeler des zones jusqu'à 4 gaufres

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