Microscope Zeiss Orion NanoFab

Description

Changez facilement d’un faisceau d’hélium à néon grâce au Orion NanoFab :

  • Utiliser le faisceau de néon afin d’usiner des nanostructures rapidement pour un rendement élevé
  • Utiliser le faisceau d’hélium afin de créer des structures de moins de 10 nm
  • Générer des images hautes résolutions avec une profondeur de champ 5 à 10 fois plus grande que celle d’un MEB et une résolution pouvant atteindre 0.5 nm
Marque et modèle

Carl Zeiss Microscopy - Orion NanoFab

Spécifications techniques

  • Usinage de structures nanométriques plus petites que 10 nm
  • Dépôt de conducteur (Platine), d’isolant (TEOS) et gravure de silicium à l’aide d’injection de gaz (GIS)
  • Imagerie haute résolution (0.5 nm)
  • Déplacement de l'échantillon:

    • X : 50 mm motorisé
    • Y : 50 mm motorisé
    • Z : 8 mm motorisé
    • Rotation : 360° motorisé et compucentrique
    • Inclinaison : -5° à 54° motorisé eucentrique

Exemples de procédés disponibles
  • Observation de matériaux isolants grâce à une douche à électrons permettant d’éviter que le spécimen se charge positivement

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