Aligneuse de masques à contact 6 po (806 MBA)

Description

Appareil d’exposition UV pour masques photolithographiques avec alignement au substrat par la face avant et possibilité d’alignement par la face arrière

3 modes d’utilisation disponibles : hard contact, N2 hard contact et Vacuum contact

Marque et modèle

OAI- Optical Associates Inc. - 806 MBA

Spécifications techniques
  •  Résolution 0.8 µm
  • Lampe UV 350W émettant aux longueurs d'onde situées entre 220 nm et 436 nm
  • Diamètre maximum des substrats : 6 po
  • Dimensions maximum des masques : carrés 7 po x 7 po
  • Compatible avec l'utilisation de petits échantillons et masques 4 po x 4 po et 5 po x 5 po
Exemples de procédés disponibles
  • Exposition de résines diverses (Shipley, AZ, SU8, Futurrex, dry film, etc.) selon des motifs prédéfinis en vue de la réalisation de :
  • Microstructures semiconductrices (sur Si, composés III-V, etc.) et microstructures métalliques
  • Masques d'implantation
  • Masques de gravure
  • Masques de soulèvements
  • Masques de placage
  • Composant permanent pour guide d’ondes ou pour canaux microfluidiques

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