Aligneuse de masques à contact 3 po (OAI 200)

Description

Appareil d’exposition UV pour masques photolithographiques avec alignement au substrat par la face avant

2 modes d’utilisation disponibles : hard contact et vacuum contact.

Marque et modèle

OAI - Optical Associates Inc. - OAI 200

Spécifications techniques
  • Résolution 0.8 µm
  • Lampe UV 200W émettant aux longueurs d'onde situées entre 220 nm et 436 nm
  • Diamètre maximum des substrats : 3 po
  • Dimensions maximum des masques : carrés 4 po x 4 po. 5x5 possible avec ajustement.
  • Compatible avec l'utilisation de petits échantillons
Exemples de procédés disponibles
  • Exposition de résines diverses (Shipley, AZ, SU8, Futurrex, dry film, etc.) selon des motifs prédéfinis en vue de la réalisation de :
  • Microstructures semiconductrices (sur Si, composés III-V, etc.) et microstructures métalliques
  • Masques d'implantation
  • Masques de gravure
  • Masques de soulèvements
  • Masques de placage
  • Composant permanent pour guide d’ondes ou pour canaux microfluidiques

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