Graveur plasma Oxford Cobra III-V

Description

Gravure de composés et hétérostructures III-V

Marque et modèle

Oxford Instruments - Plasma Pro 100-D Cobra 300

Spécifications techniques

  • Température de l'électrode : -150°C à 400°C
  • Source ICP :

    • jusqu'à 600W à 13.56MHz

  • Source du plateau : jusqu'à 3kW à 2MHz
  • Gaz installés : Ar, O2, N2, H2, SF6, SiCl4, BCl3, Cl2, CH4, HBr
  • Taille des échantillons :jusqu'à 200mm
  • Spectromètre optique (end point) : aucun
Exemples de procédés disponibles
  • Gravure de matériaux III-V, Ge, GaN
  • Gravure "ALE" (atomic layer etching)

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