La plateforme 3IT.Nano dispose de deux réacteurs PECVD
Dépôts d'oxyde de silicium, de nitrure de silicium, d’oxynitrure de silicium, de carbure de silicium, d’oxycarbure de silicium et de silicium amorphe. Possibilité de dopage au phosphore, au bore ou au germane.
STS MESC Multiplex
Le PECVD BenchMark est un système de déposition de couches minces assistée par plasma. Il sert principalement au dépôt de couches minces d’oxyde et de nitrure de silicium de moins d’un micromètre d’épaisseur.
BenchMark - 800-II
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