Appareil de pulvérisation cathodique SPT320

Description

Déposition de couches minces

Marque et modèle

Plasmionique - SPT320

Spécifications techniques
  • Système à 3 magnétrons (matériaux disponibles :Ag, Al, AlN, Al₂O₃, AlSiCu, Cr, Cu, Hf, HfO₂, In₂O₃, ITO, Mo, Nb, Ni, NiCr, Si, SiO₂, Ta, Ti, TiN, TiO₂, W) permettant de réaliser des dépôts multicouches sans avoir à casser le vide
  • Porte-échantillon rotatif
Exemples de procédés disponibles
  • Métallisations de surface
  • Dépôt de multicouches métalliques pour réalisation de contacts ohmiques sur semiconducteurs et hétérostructures

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