Photoplotter

Description

Photolithographie par écriture directe pour prototypage rapide

Marque et modèle

Heidelberg Instruments - DWL66fs

Spécifications techniques
  • Source : Diode laser émettant à 405 nm
  • Diamètre maximum des substrats : 150 mm
  • Zone d’écriture active : 140mm x 140mm
  • Compatible avec les formats CIF, GDSii, DXF et Gerber
  • Précision de placement : 50nm
  • Tête basse résolution : dimensions critiques jusqu’à 2.5µm
  • Tête haute résolution : dimensions critiques jusqu’à 0.6µm
 Exemples de procédés disponibles
  • Écriture directe dans photorésines AZ 1500, AZ nLof, SU-8 TF 6000, incluant bi-couches pour procédés de soulèvements

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