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Graveur plasma Oxford Estralas

Description

Gravure de silicium

Marque et modèle

Oxford Instruments - Plasma Pro 100 Estralas

Spécifications techniques

  • Température de l'électrode : -150°C à 100°C
  • Source ICP : jusqu'à 5kW à 2MHz
  • Source du plateau :
    • jusqu'à 300W  à 400kHz
    • jusqu'à 600W à 13.56MHz
  • Gaz installés : Ar, O2, SF6, C4F8, CF4
  • Taille des échantillons :jusqu'à 200mm
  • Spectromètre optique (end point) : aucun

Exemples de procédés disponibles

  • Gravure par procédé Bosch
  • Gravure cryogénique de Si