Bancs humides d'usage général

Description

Tous traitements chimiques nécessitant l'utilisation de produits chimiques liquides (nettoyage, gravure, traitements de surface, séchage au jet d'azote,....)

8 bancs humides disponibles.

Marque

Canadian cabinet

Bancs humides dédiés au développement

Description

Bancs humides dédiés au développement manuel des résines par immersion ou au développement automatisé. 

3 bancs disponibles dont 1 automatisé.

Marque et modèle

SIC - WB-423061

Spécifications techniques

• Surface de travail avec extraction comprenant un évier muni d’un robinet et d’une douchette d’eau désionisée ainsi qu’un pistolet à l’azote
• Situés en salle jaune pour une utilisation avec les résines photosensibles
• Banc #2 équipé d'un appareil de développement Polos ADC en polypropylène naturel massif qui permet un développement automatisé des résines photosensibles
• Pour Polos ADC uniquement :
  • Substrats de diamètre jusqu’à 200mm (8po) ou substrats jusqu’à 7po x 7 po
  • Plage de vitesses de 0-8000 rpm
  • Jusqu’à 50 programmes, jusqu’à 99 pas par programme
  • Valves commandées par le programme contrôlant l’injection d’azote, d’eau et de développeurs
  • Durée de pas, vitesse, accélération, et activation des valves programmables 

Exemples de procédés disponibles

• Développement des résines photosensibles (développeurs basiques) par immersion
• Développement de résines sensibles aux électrons (solvants) par immersion
• Nettoyage d’échantillons, de masques ou d’accessoires
• Préparation de solutions ou de résine.
• Pour le banc équipé du Polos ADC : pulvérisation de développeurs tels que MF319 et AZ400K et possibilité d'utiliser d'autres types de développeurs. Développement automatisé de résines photosensibles incluant rinçage et séchage de l’échantillon.