Graveur plasma Oxford Estrelas

Description

Gravure de silicium

Marque et modèle

Oxford Instruments - Plasma Pro 100 Estrelas

Spécifications techniques

• Température de l'électrode : -150°C à 100°C
• Source ICP : jusqu'à 5kW à 2MHz
• Source du plateau :
  • jusqu'à 300W  à 400kHz
  • jusqu'à 600W à 13.56MHz
• Gaz installés : Ar, O2, SF6, C4F8, CF4
• Taille des échantillons :jusqu'à 200mm
• Spectromètre optique (end point) : aucun

Exemples de procédés disponibles

• Gravure par procédé Bosch
• Gravure cryogénique de Si