Plasma Etcher Oxford Cobra Metal


Metal etching


Oxford Instruments - Plasma Pro 100-D Cobra 300

Technical specifications

  • Electrode temperature : -150°C to 400°C
  • ICP Source :

    • Up to 300W at 13.56MHz

  • Plate source : 3kW to 2MHz
  • Gas installed on the system : Ar, O2, H2, SF6, C4F8, BCl3, Cl2, HBr
  • Sample size : up to 200mm
  • Optical spectrometer (end point) : Ocean optics
Examples of available processes 
  • Metal etching

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